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研磨技術(一)-《上海機械》1964年06期

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本(ben)書(shu)介(jie)紹了固著磨(mo)料高速研磨(mo)加(jia)工(gong)技術。主要內(nei)容(rong)有,平面浮動研磨(mo)中工(gong)件(jian)的(de)受力、工(gong)件(jian)運動規(gui)律、工(gong)件(jian)磨(mo)具間的(de)相對(dui)運動及(ji)有關影(ying)響因素;根據磨(mo)具磨(mo)損強度分布(bu),合理地設計。

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這項技(ji)術(shu)可(ke)研(yan)磨(mo)(mo)硅片(pian)和碳硅硬(ying)質合金(jin)特硬(ying)表面(mian)表面(mian)糙度(du)1.5納米以(yi)(yi)下。比以(yi)(yi)前的研(yan)磨(mo)(mo)技(ji)術(shu)提(ti)高10倍。過去(qu)認為金(jin)剛(gang)石不(bu)可(ke)能研(yan)磨(mo)(mo)。此(ci)項技(ji)術(shu)不(bu)僅可(ke)以(yi)(yi)研(yan)磨(mo)(mo)金(jin)剛(gang)石,而且(qie)預期在。

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2012年8月21日-3、第三種比較少見研磨(mo)技(ji)術:延(yan)時破碎(sui)拋光技(ji)術,研磨(mo)劑呈(cheng)玻(bo)珠圓狀,不會造成二次研磨(mo)劃(hua)痕,同(tong)時漆面溫度(du)較低;當(dang)拋光毛球(qiu)高(gao)速運(yun)轉與研磨(mo)劑產生一定。

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2012年10月4日-當(dang)前平面研磨(mo)機高精(jing)密研磨(mo)加工(gong)(gong)的精(jing)度從(cong)微米(mi)到亞微米(mi),乃納米(mi),在汽車、家電(dian)、IT電(dian)子信息高技術領(ling)域和軍用、民用工(gong)(gong)業有廣泛應(ying)用。

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