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研磨(mo)得(de)到(dao)相同漿(jiang)料粒徑,使用(yong)不同磨(mo)球(qiu)大小與(yu)其消耗比能(neng)量的(de)關(guan)系(xi)圖4研磨(mo)機(ji)消耗比能(neng)量與(yu)研磨(mo)所得(de)漿(jiang)料平(ping)均(jun)粒徑關(guan)系(xi)2.3循環(huan)桶部分一般要得(de)到(dao)納(na)米(mi)級粉體(ti),均(jun)需(xu)利用(yong)。
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引言(yan)筆者從事德國(guo)公司研磨機銷售(shou)業務數年,且已曾受(shou)邀在國(guo)內(nei)大專院(yuan)校、工研院(yuan)納米(mi)級粉體之分散研磨原(yuan)理承接上文(wen),以(yi)機械方(fang)法的(de)濕式研磨方(fang)式是得到納米(mi)級粉體。
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多(duo)層陶瓷電容(rong)(MLCC)納米(mi)粉(fen)體(ti)之超細(xi)納米(mi)研磨(mo)技術交(jiao)流作者(zhe):吳劍栩(德國PuhlerGroup,派勒國際控股集團有限公司(si)-廣(guang)州(zhou)派勒機械設備有限公司(si)大中(zhong)華區銷售(shou)總(zong)監(jian))摘要:納米(mi)。
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