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2.現代的石英(ying)坩(gan)堝(guo)現代拉單晶的石英(ying)坩(gan)堝(guo)一般是采(cai)用電弧法(fa)生(sheng)產,半(ban)透明狀,是通常(chang)的做法(fa)是將石英(ying)坩(gan)堝(guo)壁涂上一層含有結晶水的氫氧化鋇(bei)(Ba(OH)2.8H2O)(。

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1.石(shi)英坩堝(guo)可在(zai)1450度以下使用,分(fen)透明(ming)和不透明(ming)兩種。用電弧法制的半透明(ming)石(shi)英氧化鋇溶液使其(qi)形(xing)成致(zhi)密(mi)層,其(qi)致(zhi)密(mi)層能(neng)阻止(zhi)單晶硅(gui)高溫拉制過程中(zhong)硅(gui)與石(shi)英坩堝(guo)反應。

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密(mi)封涂層涂敷器及其(qi)測量設備220CN201110279743.3石(shi)英(ying)坩堝(guo)鋇涂層的(de)噴涂設備221CN氧(yang)化(hua)鈦的(de)石(shi)英(ying)玻璃及其(qi)制備方法(fa)3208CN201210026333.2電弧法(fa)石(shi)英(ying)玻璃坩堝(guo)缺(que)陷返修的(de)。

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2013年1月(yue)16日-貫穿(chuan)于石(shi)(shi)(shi)英坩堝(guo)(guo)(guo)熔制(zhi)、烘干、酸洗(xi)、涂(tu)鋇整個(ge)生(sheng)(sheng)產流(liu)程(cheng),提高了石(shi)(shi)(shi)英坩堝(guo)(guo)(guo)生(sheng)(sheng)產的(de)這種坩堝(guo)(guo)(guo)幾乎遭到淘汰;現代的(de)坩堝(guo)(guo)(guo)通(tong)常是使用電弧法(fa)生(sheng)(sheng)產的(de)半透明(ming)石(shi)(shi)(shi)英坩堝(guo)(guo)(guo),。

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